銅箔ラミネート型高透磁率磁性シートの開発と量産

• 当社独自の銅箔ラミネート工法により、従来品IFL10M 厚さ0.1mm品に比べ、同等性能で約60%の薄型化を達成
• アキレス株式会社が開発したナノ分散ポリピロール液を用いた「めっき処理技術」を活用し、厚さ約1 µmの銅箔を実現

TDK株式会社（社長：石黒 成直）は、銅箔ラミネート型高透磁率*¹磁性シートIFM10Mシリーズを開発し、2017年6月より量産することを発表します。

近年、スマートフォンをはじめとする各種電子機器は、小型薄型化と共にNFC*²や非接触電力伝送など、多機能化が進んでいます。これに伴い、機器内部は一層の高集積化が進み、ノイズ対策についても効率の良い抑制効果が求められています。ノイズ対策は、基板上の回路設計と、それに伴い実装される各種電子部品により施されますが、これに加え、想定外の不要なノイズに対しても輻射を抑える必要があり、ノイズを吸収し熱エネルギーに変えることができる磁性シートを使うことで、ノイズが機器外部へ漏れることや、機器内部で反射し他の部品等に影響を与えることを防ぎます。

本製品は、磁性シートと独自工法により形成した厚さ約1umの銅箔とをラミネートしており、従来品IFL10M シリーズの厚さ0.1mm品と同等のノイズ抑制性能で約60%の薄型化（厚さ約0.04mm）を実現しています。

今回当社が開発した厚さ約1 umという極薄層の銅箔は、アキレス株式会社（社長：伊藤 守）のナノ分散ポリピロール液を用いためっき処理技術を活用することで実現しました。

本製品の標準シートサイズは300×200mm、厚み寸法は貼付用両面テープを含み0.05mmです。従来品のIFL10Mシリーズ、IFL12シリーズに加えて豊富なラインアップを提供します。

用語集

• *1透磁率： 磁性体に磁界を印加したときの直の増加率のことで、磁性体における磁力線の吸収しやすさのこと。
  記号μ’（ミュー）で表される。
• *2NFC： 近距離無線通信（Near Field Communication）のこと。

主な用途

• スマートフォン、タブレット端末やノートPC等、電子機器のノイズ抑制通信機能を搭載したゲーム機器
• 電磁誘導式ペン入力の感度向上

主な特長と利点

• 磁性層と銅箔のラミネート構造により、広帯域・高効率のノイズ抑制効果を維持しながら薄型化と
  軽量化へ貢献します。

主要製品